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桌面式小型濺射儀KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。

桌面式濺射儀KT-Z1650PVD是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動樣品擋板，可調節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲存等功能，方便快捷。

小型離子濺射儀鍍膜儀一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。

不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發(fā)速率對薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結構變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學。

三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜。儀器結構緊湊，全自動控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術，進行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣層的制備工藝及性能研究，對于指導薄膜傳感器工藝設計及應用的快速發(fā)展，具有十分重要的理論意義及較好的工程應用價值。